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酸碱类

品名	英文名	分子式	级别
品名	英文名	分子式	SL	UL	VL(CMOS)	EL
过氧化氢	Hydrogen Peroxide,30%	H2O2	■	■	■	■
硫酸	Sulfuric Acid	H2SO4	■	■	■	■
盐酸	Hydrochloric Acid	HCL	■	■	■	■
硝酸	Nitric Acid,70%	HNO3	■	■	■	■
发烟硝酸	Nitric Acid Fuming	HNO3			■	■
磷酸	Phosphoric Acid	H3PO4		■	■	■
氢氟酸	Hydrofluoric Acid	HF	■	■	■	■
冰乙酸	Acetic Acid,Glacial	CH3COOH	■	■	■	■
氨水	Ammonium Hydroxide	NH3·H2O	■	■	■	■
氟化铵	Ammonium Fluoride,40%	NH4F	■	■	■	■
氢氧化钾溶液	Potassium Hydroxide Liquid	KOH				■
C-400胆碱清洗剂	Choline Hydroxide	C5H15NO2		■	■	■
氢氧化钠溶液	Sodium Hydroxide Liquid	NaOH				■

蚀刻液

品名	英文名	分子式	级别
品名	英文名	分子式	SL	UL	VL(CMOS)	EL
氟化铵腐蚀液(BOE)	Ammonium Fluoride Etchant	NH4F·HF	■	■	■	■
氟化铵腐蚀液(BOES)	Ammonium Fluoride Etchant(with Surfactant）	NH4F·HF	■	■	■	■
铝蚀刻液	Aluminum Etchant	H3PO4·HNO3·CH3COOH		■	■	■
钼蚀刻液	Mo Etchant	H3PO4·HNO3·CH3COOH		■	■	■
钼铝/钼铝钼蚀刻液	MoAl/MoAlMo Etchant	H3PO4·HNO3·CH3COOH		■	■	■
硅蚀刻液(MAE)	Silicon Etchant	HNO3·HF·CH3COOH		■	■	■
金蚀刻液	Au Etchant	KI				■
银蚀刻液	Ag Etchant	H3PO4·HNO3		■	■	■
钛蚀刻液	Ti Etchant	HF	■	■	■	■
铬蚀刻液	Cr Etchant	HNO3CAN			■	■
酸性剥离液(AP-2X)	Nanostrip 2XP	H2SO5		■	■	■
氢氟酸腐蚀液DHF	Hydrofluoric Acid(with Surfactant）	HF	■	■	■	■
ITO蚀刻液(王水)	ITO Etchant	HNO3·HCI			■	■
ITO蚀刻液(草酸)	ITO Etchant	H2C2O4			■	■
ITO蚀刻液(FeCl3)	ITO Etchant	FeCl3·HCl				■

溶剂

品名	英文名	分子式	级别
品名	英文名	分子式	SL	UL	VL(CMOS)	EL
甲醇	Methanol	CH3OH		■	■	■
乙醇	Ethanol	C2H5OH	■	■	■	■
异丙醇	IPA	CH3CHOHCH3	■	■	■	■
丙酮	Acetone	(CH3)2CO	■	■	■	■
醋酸丁酯	n-Butyl Acetate	C6H12O2		■	■	■
甲苯	Toluene	C6H5CH3			■	■
二甲苯	Xylenes	C8H10			■	■
三氯乙烯	Trichloroethylene	C2HCl3		■	■	■
环已烷	Cyclohexane	C6H12			■	■
N-甲基吡咯烷酮	N-methyl-2-pyrrolidinone	CH3N(CH2)3CO		■	■	■
丙二醇单甲醚	PGME	PGME		■	■	■
丙二醇单甲醚醋酸酯	PGMEA	PGMEA		■	■	■

EL级：优于美国SEME C1标准，控制1μm颗粒，控制十多个金属元素，单项金属元素控制在100PPb。

VL级：介于EL与UL之间，控制0.5μm颗粒，控制三十多个金属元素，单项金属元素控制在10~100PPb。

UL级：等同于美国SEME C7标准，控制0.5、0.3μm颗粒，控制三十多个金属元素，单项金属元素控制在10PPb以下。

SL级：等同于美国SEME C8标准，控制0.3μm颗粒，控制三十多个金属元素，单项金属元素控制在1PPb以下。

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