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    酸碱类
    品名 英文名 分子式 级别
    SL UL VL(CMOS) EL
    过氧化氢 Hydrogen Peroxide,30% H2O2
    硫酸 Sulfuric Acid H2SO4
    盐酸 Hydrochloric Acid HCL
    硝酸 Nitric Acid,70% HNO3
    发烟硝酸 Nitric Acid Fuming HNO3
    磷酸 Phosphoric Acid H3PO4
    氢氟酸 Hydrofluoric Acid HF
    冰乙酸 Acetic Acid,Glacial CH3COOH
    氨水 Ammonium Hydroxide NH3·H2O
    氟化铵 Ammonium Fluoride,40% NH4F
    氢氧化钾溶液 Potassium Hydroxide Liquid KOH
    C-400胆碱清洗剂 Choline Hydroxide C5H15NO2
    氢氧化钠溶液 Sodium Hydroxide Liquid NaOH
    蚀刻液
    品名 英文名 分子式 级别
    SL UL VL(CMOS) EL
    氟化铵腐蚀液(BOE) Ammonium Fluoride Etchant NH4F·HF
    氟化铵腐蚀液(BOES) Ammonium Fluoride Etchant(with Surfactant) NH4F·HF
    铝蚀刻液 Aluminum Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
    钼蚀刻液 Mo Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
    钼铝/钼铝钼蚀刻液 MoAl/MoAlMo Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
    硅蚀刻液(MAE) Silicon Etchant HNO3·HF·CH3COOH
    金蚀刻液 Au Etchant KI
    银蚀刻液 Ag Etchant H3PO4·HNO3  

    钛蚀刻液

    Ti Etchant HF
    铬蚀刻液 Cr Etchant HNO3CAN    
    酸性剥离液(AP-2X) Nanostrip 2XP H2SO5  
    氢氟酸腐蚀液DHF Hydrofluoric Acid(with Surfactant) HF
    ITO蚀刻液(王水) ITO Etchant HNO3·HCI    
    ITO蚀刻液(草酸) ITO Etchant H2C2O4    
    ITO蚀刻液(FeCl3) ITO Etchant FeCl3·HCl
    溶剂
    品名 英文名 分子式 级别
    SL UL VL(CMOS) EL
    甲醇 Methanol CH3OH
    乙醇 Ethanol C2H5OH
    异丙醇 IPA CH3CHOHCH3
    丙酮 Acetone (CH3)2CO
    醋酸丁酯 n-Butyl Acetate C6H12O2
    甲苯 Toluene C6H5CH3
    二甲苯 Xylenes C8H10
    三氯乙烯 Trichloroethylene C2HCl3
    环已烷 Cyclohexane C6H12
    N-甲基吡咯烷酮 N-methyl-2-pyrrolidinone CH3N(CH2)3CO
    丙二醇单甲醚 PGME PGME
    丙二醇单甲醚醋酸酯 PGMEA PGMEA
    EL级:优于美国SEME C1标准,控制1μm颗粒,控制十多个金属元素,单项金属元素控制在100PPb。
    VL级:介于EL与UL之间,控制0.5μm颗粒,控制三十多个金属元素,单项金属元素控制在10~100PPb。
    UL级:等同于美国SEME C7标准,控制0.5、0.3μm颗粒,控制三十多个金属元素,单项金属元素控制在10PPb以下。
    SL级:等同于美国SEME C8标准,控制0.3μm颗粒,控制三十多个金属元素,单项金属元素控制在1PPb以下。
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